Вафли нимноқили кварц

Semixlab Semixlab Semiconductor Quartz Wafer як субстрати кремнийи ба таври дақиқ сайқалёфта ва ултра-баланд тозашуда мебошад, ки барои муҳитҳои коркарди нимноқилҳои серталаб пешбинӣ шудааст.

Он ба таври васеъ ҳамчун вафли мукаммал, вафли интиқолдиҳанда, субстрати оптикӣ ва пойгоҳи фотомаска дар оксидшавии гармӣ, CVD/LPCVD, PECVD ва системаҳои литография истифода мешавад.

Ин вафли кварцӣ аз 99.99% SiO₂-и баландсифат сохта шудааст, ки устувории истисноии гармӣ, бетаъсирии кимиёвӣ ва шаффофияти оптикиро пешниҳод мекунад, ки кори устувор ва бидуни олударо дар хатҳои пешрафтаи истеҳсоли нимноқилҳо таъмин мекунад.

Ⅰ. Хусусиятҳои моддӣ ва рӯизаминӣ

● Мавод: Силикаи синтетикӣ ё табиӣ омехташуда (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Имконоти Диаметр: 2", 4", 6", 8", 12" (андозаҳои фармоишӣ дастрасанд).

● Андозаи рӯизаминӣ: Дучандон сайқал додашуда, ҳамворӣ ≤ 5 мкм, ноҳамвории рӯи замин ≤ 0.5 нм.

● Муқовимати гармидиҳӣ: Муътадил то 1200°C кори доимӣ.

● Коэффисиенти васеъшавии гармӣ: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Интиқоли оптикӣ: >90% аз 190 нм то 2,600 нм.

Ҳар як лавҳа аз санҷиши қатъии рӯизаминӣ, санҷиши андозагирӣ ва таҳлили тозагӣ мегузарад, то мувофиқати пурраи талаботҳои нимноқилро таъмин кунад.

Ⅱ. Вазифаҳои асосӣ дар равандҳои нимноқилҳо

1. Интиқолдиҳандаи раванд дар системаҳои CVD ва LPCVD

Вафли кварцӣ ҳамчун ваффи мукаммал ё фосилавӣ барои мӯътадил кардани ҷараёни газ ва якрангии ҳарорат ҳангоми ҷойгиркунии SiO₂, Si₃N₄ ва қабати тунуки полисиликон истифода мешаванд. Аниқии андозагирии онҳо афзоиши якхелаи филм ва тавлиди ҳадди ақали зарраҳоро дар тӯли давраҳои таҳшин таъмин мекунад.

2. Барномаҳои оташдонҳои оксидшавӣ ва диффузӣ

Дар равандҳои оксидшавии ҳарорати баланд ва диффузияи допант, вафли кварцӣ ҳамчун сипарҳои гармидиҳӣ ё мониторҳои раванд амал карда, тақсимоти якхелаи ҳароратро нигоҳ медорад ва ифлосшавии вафли истеҳсолиро пешгирӣ мекунад.

3. Истифодаи оптикӣ ва литография

Ба шарофати гузариши баланди оптикӣ ва якрангии шохиси шикастани худ, вафли кварцӣ барои сохтани фотониқоб, субстратҳои экспозицияи DUV ва асбобҳои калибркунии оптикӣ беҳтарин аст. Он интиқоли пайвастаи нурро барои системаҳои литографияи i-line, KrF ва ArF кафолат медиҳад.

4. Муҳити плазма ва муҳит

Дар системаҳои коркарди хушк ва плазмаи CVD, вафли кварцӣ ҳамчун сипари камера ё тирезаҳои плазма истифода мешаванд, ки қувваи аълои диэлектрикӣ ва устувории кимиёвиро бар зидди газҳои галогенӣ (CF₄, SF₆, Cl₂) пешниҳод мекунанд.

5. Метрология ва калибровкаи тачхизот

Вафли кварцӣ ҳамчун вафли истинод барои ғафсии филм, ҳарорат ва калибрченкунии ҳамвор хизмат мекунанд. Сатҳи ултра ҳамвор ва бе нуқсони онҳо имкон медиҳад, ки натиҷаҳои дақиқ ва такроршавандаи андозагирӣ, устувории назорати равандро таъмин кунанд.

Барномаҳои маъмулӣ

● Вафли хоми барои системаҳои CVD, LPCVD ва PECVD

● Интиқолдиҳандаи раванд ё сипари гармӣ дар печҳои оксидшавӣ ва диффузия

● Субстрати фотомаск барои литографияи ултрабунафш/DUV

● Вафли истинод барои калибрченкунӣ ва метрологияи таҷҳизот

● Тирезаи камераи плазма ва муҳофизи раванди etching

Semixlab Semixlab Semiconductor Quartz Wafer як субстрати баландсифатест, ки барои равандҳои серталабтарини нимноқилҳо таҳия шудааст. Устувории гармидиҳӣ, дақиқии оптикӣ ва тозагии кимиёвии он онро дар истихроҷ, оксидшавӣ, литография ва метрология ҳатмӣ мегардонад. Бо дастгирии ҳамаҷонибаи мутобиқсозӣ ва муҳандисӣ, Semixlab қарорҳоро пешкаш мекунад, ки мутобиқати раванд, эътимоднокии ҳосил ва самаранокии амалиётро ба ҳадди аксар мерасонанд. Мо самимона умедворем, ки шарики дарозмуддати шумо дар Чин мешавем.